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書誌情報サマリ
書名 |
フォトポリマーの基礎と応用 CMCテクニカルライブラリー 136
|
著者名 |
山岡 亞夫/監修
|
著者名ヨミ |
ヤマオカ ツグオ |
出版者 |
シーエムシー出版
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出版年月 |
2003.3 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
資料種別 |
請求番号 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
県立図書館 | 001000606879 | 一般書 | 578.4/ヤマ/ | 閉架積層 | 館外可 | 在庫 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1001000951579 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
フォトポリマーの基礎と応用 CMCテクニカルライブラリー 136 |
|
CMCテクニカルライブラリー |
著者名 |
山岡 亞夫/監修
|
著者名ヨミ |
ヤマオカ ツグオ |
出版者 |
シーエムシー出版
|
出版年月 |
2003.3 |
ページ数 |
336p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-88231-787-7 |
分類記号9版 |
578.4 |
分類記号10版 |
578.4 |
書名ヨミ |
フォトポリマ- ノ キソ ト オウヨウ |
書名ヨミ |
ジツヨウ コウブンシ レジスト ザイリョウ ノ シンテンカイ |
注記 |
初版の書名:実用高分子レジスト材料の新展開|普及版 |
内容紹介 |
内容紹介:フォトポリマーが広く使用され始めて既に40年が過ぎ、精密加工・微細加工のキーテクノロジーとしての地位を確立しているが、最近では新しい局面に立ち至っている…。97年刊「実用高分子レジスト材料の新展開」の普及版。 |
件名1 |
感光性樹脂
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言語区分 |
日本語 |
内容細目
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