蔵書情報
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書誌情報サマリ
書名 |
入門フォトマスク技術
|
著者名 |
田邉 功/著
|
著者名ヨミ |
タナベ イサオ |
出版者 |
工業調査会
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出版年月 |
2006.12 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
資料種別 |
請求番号 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
県立図書館 | 001001050192 | 一般書 | 549.7/タナ/ | 閉架積層 | 館外可 | 在庫 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1001001402981 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
入門フォトマスク技術 |
副書名 |
LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク |
著者名 |
田邉 功/著
竹花 洋一/著
法元 盛久/著
|
著者名ヨミ |
タナベ イサオ タケハナ ヨウイチ ホウガ モリヒサ |
出版者 |
工業調査会
|
出版年月 |
2006.12 |
ページ数 |
323p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-7693-1259-8 |
分類記号9版 |
549.7 |
分類記号10版 |
549.7 |
書名ヨミ |
ニュウモン フォト マスク ギジュツ |
副書名ヨミ |
エルエスアイ エフピーディー ピーダブリュービー メムス ノ タメ ノ フォト マスク |
注記 |
欧文タイトル:Introduction to Photomask Technology |
内容紹介 |
内容紹介:半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。 |
著者紹介 |
著者紹介:〈田邉功〉千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。 |
件名1 |
リソグラフィー
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言語区分 |
日本語 |
内容細目
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