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蔵書情報

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所蔵数 1 在庫数 0 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み　　図解入門　　

著者名 佐藤 淳一／著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
版表示 第4版
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 請求番号 配架場所 帯出区分 状態 貸出
1 県立図書館001002031639一般書549.8/ｻﾄ/自然５(54)館外可貸出中  ×

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書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1003000553954
書誌種別 図書
書名 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み　　図解入門　　
副書名 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰
図解入門
著者名 佐藤 淳一／著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
版表示 第4版
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9
ページ数 255p
大きさ 21cm
ISBN 4-7980-6245-7
ISBN 978-4-7980-6245-7
分類記号９版 549.8
分類記号１０版 549.8
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ
副書名ヨミ シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン
内容紹介 ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。
件名1 半導体
言語区分 日本語



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