蔵書情報
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書誌情報サマリ
書名 |
プラズマ半導体プロセス工学
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著者名 |
市川 幸美/共著
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著者名ヨミ |
イチカワ ユキミ |
出版者 |
内田老鶴圃
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出版年月 |
2003.7 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
資料種別 |
請求番号 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
県立図書館 | 001000661775 | 一般書 | 549.8/イチ/ | 閉架積層 | 館外可 | 在庫 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1001000999181 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
プラズマ半導体プロセス工学 |
副書名 |
成膜とエッチング入門 |
著者名 |
市川 幸美/共著
佐々木 敏明/共著
堤井 信力(1936~)/共著
|
著者名ヨミ |
イチカワ ユキミ ササキ トシアキ テイイ シンリキ |
出版者 |
内田老鶴圃
|
出版年月 |
2003.7 |
ページ数 |
289p |
大きさ |
22cm |
ISBN |
4-7536-5048-0 |
分類記号9版 |
549.8 |
分類記号10版 |
549.8 |
書名ヨミ |
プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク |
副書名ヨミ |
セイマク ト エッチング ニュウモン |
内容紹介 |
内容紹介:プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説する。 |
件名1 |
半導体
|
件名2 |
プラズマ物理学
|
言語区分 |
日本語 |
内容細目
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